Home » Российский венчурный рынок отстает от США в семь раз по объему инвестиций
Российский венчурный рынок отстает от США в семь раз по объему инвестиций

Российский венчурный рынок отстает от США в семь раз по объему инвестиций

Отечественный рынок венчурного капитала значительно отстает от глобальных стандартов по объему инвестиций в расчете на душу населения. Для приближения к уровню США требуется семикратный рост объемов VC-инвестирования, к такому заключению пришел Сергей Егоров, партнер платформы Brainbox.VC.

«В прошлом году совершено примерно 150 сделок. Необходимо достичь отметки в 1000 сделок. При стандартной международной конверсии венчурных инвестиций в IPO (соотношение 40 к 1) это позволит достичь целевых показателей по капитализации. Венчурный рынок будет генерировать новых публичных компаний, качественные технологические проекты», — отметил Егоров выступая на Российском Венчурном Форуме.

Текущее состояние российского венчурного сектора характеризуется низким уровнем синдикации: в среднем в одной сделке участвует чуть более одного инвестора. Для сравнения, в американской практике этот показатель составляет около четырех участников. Специалист полагает, что для усиления кооперации участников рынка необходимо снизить барьеры входа при учреждении нового фонда.

Платформа Brainbox.VC разрабатывает механизм, который сможет облегчить процесс создания венчурных фондов путем сокращения минимального капитала с 500 до 50 млн рублей.

По данным VentureGuide, в 2024 году количество венчурных сделок составило 165 операций. Для контраста, в 2023 году этот показатель был выше — 192 сделки. Вместе с тем аналитики, которых опрашивала Abn.Agency, высказали предположение, что статистика 2024 года может быть неполной вследствие увеличения доли закрытых инвестиционных соглашений, а также регистрации вложений в компании российского происхождения через структуры в странах СНГ и региона Ближнего Востока.

Читайте также

Post navigation

Оставить комментарий

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *